반도체 제조 프로세스에 활용되는 광 제품을 소개합니다.

  반도체 제조 관련

리소그래피용 UV램프

자외선 파장 영역 중에서 특히 436/405/365nm을 유효하게 활용할 수 있어 긴 수명의 안정된 방사 강도를 가진 고휘도 램프입니다.

할로겐 히터

빛을 열로 이용하는 램프로서 유연성과 컨트롤성능이 뛰어나 고효율ㆍ친환경ㆍ소형/경량 등 다른 열원에는 없는 뛰어난 특징을 지니고 있습니다.

플래시 램프 어닐

몇 밀리 초의 단시간에 대광량 펄스광을 조사합니다. 조사물의 표면에만 온도를 올리기 때문에 서멀 버지트가 적은 처리가 가능합니다.

엑시머 램프/엑시머 광조사 유닛

파장 180nm 이하의 진공 자외광（VUV）을 효율적으로 방사합니다.

ArF/KrF레이저

전 세계 반도체 메이커의 생산 현장을 질과 양쪽 모두 지원하고 있는 리소그래피용 엑시머 레이저입니다.

EUV （극단 자외광）

파장 13nm의 극단 자외선을 방사하는 광원입니다. KrF/ArF 레이저의 뒤를 잇는 반도체 리소그래피용 광원으로서 개발을 진행하고 있습니다.

Spot UV 조사장치 Spot Cure 시리즈

UV램프 내장으로 사용이 편리한 Spot UV 조사장치입니다. 라인이나 워크에 알맞은 렌즈나 유닛 등의 옵션도 풍부합니다.

자외선 순간 건조장치 Unicure 시스템

하이파워, 콤팩트, 저온처리를 실현한 UV경화ㆍ건조장치입니다. 목적에 맞게 램프나 UV강도, 조사 폭 등의 구성이 가능합니다.

플래시 UV장치

자외 영역에서 적외 영역까지의 연속 발광으로 발광 펄스는 수은 램프의 50배 이상. 고 피크 조도ㆍ저온처리ㆍ에너지 절약 등 진정한 신세대 UV장치입니다.

자외선 포토 리지스트 경화/차지 소거 장치 유니 하드

드라이 에칭 시의 내플라스마성의 향상, 이온 주입 시의 리지스트 탈가스 및 인화, 전하 소거, 스트레스 소거, Low－k Cure 등 다양한 용도에 활용되고 있습니다.

웨이퍼 주변/스텝/전면 노광장치

웨이퍼의 외부 및 칩 레이아웃에 따라 「단계별」「전면」 등 용도에 알맞게 선택할 수 있는 ＵＶ조사장치입니다.

노광장치

투영노광방식（편면 일괄노광ㆍ양면 동시노광ㆍ스텝&리피트）, 프록시미티 노광방식 등, 다양한 노광장치를 소개합니다.

외관검사장치

웨이퍼나 마스크의 외관검사, 평면 프린트 기판 등의 회로검사, 유리면 검사를 실시하는 외관검사장치를 소개합니다.

광측정기기

광원 메이커로서 사용자의 입장에서 개발한 「정확하고 사용이 편리한」광량ㆍ조도 측정기기를 소개합니다.